一般的，真空電鍍工藝包括：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是選用在真空條件下，在一些鍍金電鍍廠通過蒸餾或濺射等方法在塑件表面堆積各種金屬（主要是不銹鋼電鍍）和非金屬薄膜，通過鍍金電鍍的方法可以得到非常薄的表面鍍層，具有速度快附著力好的性能，但因此報價也較高，可以進行操作的金屬類型較少，通常用來作產品的功能性鍍層， 例如作為內部屏蔽層運用。多見的塑膠產品電鍍技能有兩種：水電鍍和真空離子鍍.
用在不銹鋼電鍍方面的是：真空離子鍍，又稱真空鍍膜.真空電鍍的做法現在是一種對比盛行的做法，做出來的產 品金屬感強，亮度高．而相對其他的鍍膜法來說，本錢較低，對環(huán)境的污染小，現在為各行業(yè)廣泛選用．
真空電鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面構成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。加熱金屬的方法：有運用電阻發(fā)作的熱能，也有運用電子束的。
一些東莞電鍍廠在對塑料成品施行蒸鍍時，為了使金屬冷卻時所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形，有必要對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。
置待鍍金屬和被鍍塑料成品于真空室內，選用一些方法加熱待鍍資料，使金屬蒸發(fā)或行進，金屬蒸汽遇到冷的塑料成品表面凝集成金屬薄膜。
在真空條件下可減少蒸發(fā)資料的原子、分子在飛向塑料成品進程中和其他分子的磕碰，減少氣體中的 活性分子和蒸發(fā)源資料間的化學反應（如氧化等），然后供應膜層的致密度、純度、堆積速率和與附著力。通常真空電鍍懇求成膜室內壓力等于或低于 10-2Pa，關于蒸發(fā)源與被鍍成品和薄膜質量懇求很高的場合，則懇求壓力更低（ 10-5Pa ）。
鍍層厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附著力差，易掉落。厚度0.04時反射率為90%。
